해외 경쟁업체에 입사하기 위해 국가핵심기술로 지정된 최신 반도체 기술을 빼돌린 삼성전자 출신 엔지니어가 항소심에서 실형을 선고받았다.

17일 서울중앙지검 정보기술범죄수사부(부장검사 이성범)에 따르면 서울고법은 지난 14일 부정경쟁방지법 위반·산업기술보호법 위반 혐의 등으로 기소된 전 삼성전자 엔지니어 최모(44)씨에게 징역 1년 6개월의 실형과 벌금 1000만원을 선고했다. 최씨는 법정구속 됐다.

최씨는 삼성전자에서 근무하면서 인텔로 파운드리 반도체 핵심 기술이 담긴 파일을 유출하려 한 혐의로 재판에 넘겨졌다. 인텔로 이직을 준비하던 최씨는 최신 반도체 초미세 공정과 관련된 33개 파일을 외부에서 열람한 뒤 이를 촬영해 빼돌린 것으로 조사됐다.

검찰은 1심에서 징역 5년에 벌금 1억원을 구형했지만, 재판부는 A씨에게 징역 1년 6개월에 집행유예 2년, 벌금 1000만원을 선고했다.

항소심 재판부는 유출될 경우 국가의 안전보장 및 국민 경제에 막대한 피해를 줄 우려가 있는 반도체 초미세 공정기술을 취득·유출한 범죄의 중대성, 범행 내용, 수법에 비춰 죄책이 무거움에도, 최씨가 극히 일부 혐의만 인정하면서 반성하지 않은 점 등을 고려해 실형을 선고했다.

검찰은 “앞으로도 국가핵심기술 및 영업비밀 유출 사범에 신속, 엄정히 대응하고 죄에 상응하는 처벌이 이뤄질 수 있도록 노력하겠다”고 밝혔다.

백준무 기자 [e-mail]