해외 기업으로 이직하기 위해 국가핵심기술로 지정된 반도체 기술을 대거 유출한 삼성전자 전직 연구원이 재판에 넘겨졌다.

서울중앙지검 정보기술범죄수사부(부장검사 이성범)는 30일 삼성전자 수석연구원 출신 이모(51)씨를 산업기술보호법 위반, 부정경쟁방지법 위반(영업비밀 국외누설 등), 업무상 배임죄 등의 혐의로 불구속기소했다.

사진=뉴스1

이씨는 삼성전자에 재직 중이던 지난해 3~6월 회사의 D램 반도체 관련 기술 자료를 개인 이메일을 통해 전송하는 방식으로 유출한 혐의를 받고 있다.

이씨가 유출한 자료에는 ‘D램 반도체 적층조립 기술’ 등 국가핵심기술 13건이 포함된 것으로 확인됐다. 적층 기술은 데이터 저장 공간을 수직으로 여러 겹으로 쌓아 처리 용량을 높이는 것으로, 반도체 경쟁력의 핵심으로 꼽히는 기술 중 하나다. 이씨는 ‘D램 반도체 사업화 전략 자료’ 등 영업비밀 100여건도 함께 빼돌린 것으로 조사됐다.

검찰 조사 과정에서 이씨는 미국에 있는 반도체 관련 업체로 이직하기 위해서 범행을 저지른 것으로 나타났다. 다만 검찰은 이씨가 유출한 자료가 해외로 빠져나가지는 않은 것으로 파악했다.

검찰 관계자는 “죄책에 상응하는 처벌이 이뤄질 수 있도록 공소유지에 만전을 기하는 한편, 향후에도 경제안보와 직결되는 기술유출 사범에 대해 엄정 대응하겠다”고 밝혔다.

백준무 기자 [e-mail]