SK하이닉스·日 도시바, 전방위 협력체제 구축

도시바, 3050억 받고 소송 취하
“소모적 분쟁보다 경쟁력 확보”
나노 공정기술 공동개발 합의

SK하이닉스와 일본 도시바가 차세대 반도체 나노 공정 기술 공동개발 등 전방위 협력 체제를 구축하기로 19일 합의했다. 도시바는 SK하이닉스를 상대로 제기한 1조원대 손해배상 소송을 전격 취하했다.

SK하이닉스는 이날 도시바와 나노임프린트 리소그라피(NIL) 기술 개발에 착수한다고 공시했다. NIL은 메모리 반도체 공정 미세화의 한계를 극복하는 차세대 기술이다.

도시바는 ‘메모리 반도체 기술 유출에 따른 손해를 배상하라’며 SK하이닉스를 상대로 일본 법원에 청구한 1조1000억원 규모의 민사소송을 취하했다. SK하이닉스는 소송 규모의 27%가량인 2억7800만달러(3050억원)를 도시바에 지급하기로 하고 소송 취하에 합의했다. 도시바는 일본 검찰이 SK하이닉스 전 직원을 부정경쟁방지법 위반 혐의로 기소하자 지난 3월 소송을 냈다.

SK하이닉스는 D램 시장에서 글로벌 점유율 2위, 도시바는 낸드플래시 부문에서 시장 점유율 2위다. 반도체 업계 관계자는 “글로벌 시장에서 반도체 미세공정 기술 진화 속도 등 급변하는 사업 환경에 비춰 양사가 소모적인 특허분쟁에 매달리기보다 협력을 통해 기술 경쟁력을 확보하는 게 유리하다고 판단한 것”이라고 평가했다.

황계식 기자 [e-mail]